스테인레스 스틸 PVD 코팅 기계

PVD 코팅 장비는 고진공 상태에서 금속 알루미늄을 고온에서 용융 및 증발시켜 플라스틱 필름 표면에 알루미늄 증기를 증착시켜 플라스틱 필름 표면이 금속 광택을 갖도록 하는 장치입니다. 진공 코팅 기술은 특정 필름을 생산하는 기술로 실제 생산과 생활에 광범위하게 적용되고 있습니다.

마그네트론 스퍼터링 코팅 공정에서 막 두께 균일성, 막 형성 품질 및 스퍼터링 속도의 문제는 실제 생산에 매우 중요합니다. 이러한 공정의 안정성에 영향을 미치는 요인에는 주로 스퍼터링 전력, 가스 압력 및 아르곤 순도, 타겟과 기판 사이의 거리, 자기장의 강도 및 분포, 기판의 온도 및 청정도 등이 포함됩니다. 이러한 요소를 알고 마스터하면 신속하게 찾을 수 있습니다. 실패의 원인과 해결책.

1. 스퍼터링 파워의 영향

스퍼터링 파워의 증가는 막 두께의 균일성과 스퍼터링 속도의 균일성을 향상시킬 것입니다. 스퍼터링 파워가 증가함에 따라 플라즈마의 면적이 증가하므로 막 층의 균일성이 향상됩니다. 전력의 증가는 아르곤 가스의 이온화 정도를 향상시킬 수 있고, 스퍼터링되는 타겟 원자의 수를 증가시켜 스퍼터링 속도를 증가시킬 수 있다. 이러한 타겟 원자는 높은 에너지로 기판에 증착되어 타겟 원자와 기판 사이의 접착력과 막의 밀도를 향상시킬 수 있다. 따라서, 박막의 성막 품질이 향상된다. 그러나 너무 높은 전력은 원자가 너무 높은 에너지로 기판에 충격을 가하게 하고 이에 따라 2차 전자도 증가하여 기판 온도가 너무 높아져 필름의 품질과 스퍼터링 속도가 저하됩니다.

2, 대상 기본 거리의 효과

타겟과 베이스 사이의 거리가 작을 경우 막질은 높고 스퍼터링율은 높으나 막층의 균일성이 나쁘다. 타겟과 베이스 사이의 거리가 증가하면 막 품질과 스퍼터링 속도가 감소하고 막 균일성이 향상됩니다. 따라서 적절한 타겟과 베이스 간의 거리는 공정 안정성을 보장하는 중요한 요소입니다. 장비는 공장에서 적절한 목표 베이스 거리로 설정되어 있으므로 여기에서는 설명하지 않습니다.

신청

매개변수

우리 회사

인기 탭: 스테인레스 스틸 pvd 코팅 기계, 중국, 공급 업체, 제조업체, 공장, 맞춤형, 구매, 가격, 견적